真空镀膜设备
图书信息
书名：真空镀膜设备作者：张以忱
包装：平装
页数：205页
全文字数：212000
出版社：冶金工业出版社
出版时间：2009-8
图书简介
《真空镀膜设备》共13章，涵盖真空镀膜室、镀膜室工件架、加热及测温、抽气系统、导人导出结构、溅射镀膜等方面。包括磁控溅射靶的设计、电磁屏蔽结构、蒸发源的设计、同轴圆柱磁环溅射靶的磁场计算、溅射镀膜的膜厚均匀性设计等。全书详实全面，理论结合实践，适合真空镀膜技术相关行业的技术人员使用，也适用于高等院校相关专业师生的教材及参考书。
推荐理由
《真空镀膜设备》详实全面，能够为从事真空镀膜技术相关行业的设计、制造、操作与维护的技术人员提供有用的指导和实践帮助，也适用于高等院校相关专业师生的教材和参考书。本书通过理论结合实践的方式，覆盖真空镀膜设备的方方面面，适应职业需求，是学习和实践真空镀膜的不可多得的工具书。
