真空镀膜技术与设备/普通高等教育“十二五”规划教材
图书信息
书名：真空镀膜技术与设备/普通高等教育“十二五”规划教材作者：张以忱
包装：平装
开本：16
出版社：冶金工业出版社
出版时间：2014-07-01
图书简介
《真空镀膜技术与设备/普通高等教育“十二五”规划教材》系统阐述了各种真空镀膜技术的基本概念、工作原理和应用，真空镀膜机结构及蒸发源，磁控靶的设计计算，薄膜厚度的测量技术，薄膜与表面分析和检测技术；重点介绍了近年来出现的一些镀膜新方法与技术，以及真空镀膜机设计计算等方面的内容。本教材内容详实丰富，知识点串联紧密，通俗易懂。建议材料、化学、物理等专业学生及从事真空镀膜领域的工程技术人员阅读。
推荐理由
本书系统阐述了真空镀膜技术的基础原理、各种蒸发源、溅射及离子镀技术、相关设备的结构设计、薄膜厚度的测量技术、薄膜与表面分析和检测技术等方面内容，对物料学、化学、物理等专业背景的学生及从事相关工程技术的人员均有较高的参考价值和指导作用。本教材通俗易懂，知识点严谨，适合初学者和专业技术人员学习参考。
