半导体薄膜技术与物理(第3版高等院校材料专业系列规划教材)

半导体薄膜技术是半导体工业和研究领域的关键技术之一，本书以半导体薄膜技术为重点，全面系统地介绍了各种半导体薄膜的制备技术及其相关的物理基础。从真空技术的概述到蒸镀、溅射、化学气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、液相外延、湿化学合成等各种半导体薄膜的沉积技术，再到半导体超晶格、量子阱的基本概念和理论，典型薄膜半导体器件的制备技术，以及溶液法技术及发光器件的制备，全书共分十一章，内容既深入又广泛。 本书力求语言简洁，深入浅出，同时又不失看点。全书结合半导体材料和器件的性能介绍，阐述了半导体薄膜技术与物理领域的新概念、新进展、新成果和新技术，图片、表格和图示插图相当丰富，能够帮助读者更好地理解和掌握半导体薄膜技术及其物理基础。本书写作精细，理论和实践相结合，对于读者而言，具有易于理解、易于实践的优势。 推荐理由：本书作为半导体薄膜技术的专业教材，系统地介绍了各种薄膜制备技术及其物理基础，不仅适合高等院校材料、物理、电子、化学等学科的研究生或高年级本科生学习，也适合从事半导体材料、薄膜材料制备等领域的工作者参考。本书内容翔实、概念清楚，结合理论和实践，降低了读者学习的难度，让读者轻松掌握半导体薄膜技术及其物理基础，是值得推荐的一本专业教材。