磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能
图书信息
书名：磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能作者：肖剑荣
包装：平装
开本：16
出版社：中国水利水电出版社
出版时间：2019-04-01
图书简介
磁控溅射是一种通用、成熟的薄膜制备工艺技术，该技术可通过调整工艺参数，对薄膜结构进行有效调节。《磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能》一书介绍了氮化铜薄膜的制备工艺、薄膜结构与性能之间的内在关系，探讨了薄膜的电子输运、光学带隙、热稳定性等相关物理量的变化机制。本书结构合理、条理清晰，作者通过对氮化铜薄膜的制备工艺与研究现状的深入分析，在理论上阐述了氮化铜薄膜的研究现状。同时，本书还探究了氮化铜薄膜的性能研究、优秀性原理研究，并对氮化铜薄膜的实际应用进行了讨论。基于本书的深入研究和阐述，读者可以了解和掌握氮化铜薄膜制备的过程和技术，以及薄膜结构与性能之间的内在关系，从而为相关工程技术人员提供了实用的参考和指导。
推荐理由
本书通过对磁控溅射制备氮化铜薄膜的工艺参数、薄膜结构与性能之间的内在关系进行研究和探讨，深入阐述了氮化铜薄膜的制备与应用。对于从事薄膜制备及相关技术研究的工程技术人员而言，本书具有重要的参考和借鉴价值。