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MOS集成电路工艺与制造技术

更新时间: 2024年10月01日 访问量: 885次
MOS集成电路工艺与制造技术

图书信息

书名:MOS集成电路工艺与制造技术
作者:潘桂忠
包装:平装
出版社:上海科学技术出版社
出版时间:2012-07-01

图书简介

《MOS集成电路工艺与制造技术》为一本系统学习MOS集成电路制造技术的优秀参考书,作为该领域的入门书籍,具有全面、深入、详实的特点。本书不但解析了PNOS、NMOS、CMOS等工艺,还介绍了LV HV兼容CMOS工艺,并详细讲解了硅晶圆衬底、氧化、扩散、离子注入、外延、化学汽相淀积、光刻、付蚀与刻蚀等多种关键制造技术。本书不仅适用于集成电路行业的工程技术人员,也适合电子商务、电子信息等相关专业的学生和教师学习使用。

推荐理由

本书内容详实且丰富,不仅适用于电子信息专业人士,也适合相关专业学生和教师使用。是一本入门学习MOS集成电路制造技术的优秀参考书。

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