Springer手册精选系列·晶体生长手册（第4册）：蒸发及外延法晶体生长技术（影印版）
图书信息
书名：Springer手册精选系列·晶体生长手册（第4册）：蒸发及外延法晶体生长技术（影印版）作者：德哈纳拉,Govindhan Dhanaraj
包装：平装
开本：16
页数：417页
出版社：哈尔滨工程大学出版社
出版时间：2013-1
图书简介
《Springer手册精选系列·晶体生长手册（第4册）：蒸发及外延法晶体生长技术（影印版）》介绍了现代晶体生长领域重要的气相生长技术，主题包括碳化硅、氮化镓、氮化铝和有机半导体的气相生长，和外延生长和薄膜的技术，从液相的化学气相淀积到脉冲激光和脉冲电子淀积。书中详细讲述了气相生长技术的基本原理、研究进展和应用。该书内容翔实、全面，是晶体生长领域的一本经典之作。读者可从中学习到晶体生长的基本知识和实际应用技术。推荐给科研人员和实验室从业人员使用，具有很高的参考价值。
推荐理由
本书详细介绍了气相生长技术的原理及其在碳化硅、氮化镓、氮化铝和有机半导体等领域的应用，并且还包括了外延生长和薄膜技术。该书既适合初学者学习晶体生长的基本知识，也适合从事晶体生长领域的实验室从业人员参考使用。该书内容翔实、全面，是晶体生长领域的一本经典之作，推荐给从事晶体生长领域的科研人员和实验室从业人员使用。
