硅MEMS工艺与设备基础
图书信息
书名：硅MEMS工艺与设备基础作者：阮勇
包装：平装-胶订
出版社：国防工业出版社
出版时间：2018-12-01
图书简介
《硅MEMS工艺与设备基础》涵盖了MEMS加工技术的关键领域，是学习MEMS加工技术不可或缺的参考书。本书详细介绍了体硅工艺清洗、光刻、氧化扩散、刻蚀、键合、检测封装等内容。书中优秀章探讨了湿法腐蚀技术；第二章分析了薄膜制备和各种材料的特点；第三章聚焦光刻技术的接触式和双面光刻；第四章介绍了各种干法刻蚀技术；第五章涵盖了常用的检测和测量技术；第六章重点介绍了体硅工艺中的键合技术与封装；第七章则介绍了MEMS器件的模型建立，分析和仿真。本书不仅详尽而且内容全面，适合MEMS加工工程师和学生学习和参考。
推荐理由
本书详细介绍了MEMS加工技术的关键领域，适合MEMS加工工程师和学生学习和参考。
