硅技术的发展和未来 P.希弗特 著作 冶金、地质 新华书店正版全新 速发
图书信息
书名：硅技术的发展和未来 P.希弗特 著作 冶金、地质 新华书店正版全新 速发作者：P.希弗特
出版社：冶金工业出版社
出版时间：2010-05-01
图书简介
《硅技术的发展和未来》是一本涵盖硅技术多方面内容的综合性著作。该书首先回顾了世界半导体硅材料的发展历史，包括早期的单晶硅制备技术、Czochralski方法、气相沉积等技术，展示出半导体硅材料的重要性和广泛应用价值。其次，该书着重介绍了半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、品格缺陷、杂质影响等多方面内容。不仅如此，该书还提出了一些新的科技概念，如量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等，展示了科技发展的新趋势。本书内容详实，有数据支持，并具有指导意义和参考价值。该书不仅适用于高等院校、科研院所人员，还可供相关单位从事半导体材料研究与开发人员使用。
推荐理由
该书是一本关于硅技术发展全面的综合性著作。作者涵盖了半导体材料学习、科研和开发人员需要掌握的知识点，同时提出了一些科技发展的概念和趋势，具备指导意义和参考价值。推荐给对半导体材料学习、科研和开发有兴趣的读者阅读学习。