纳米数字集成电路的偏差效应分析与优化：从电路级到系统级
图书信息
书名：纳米数字集成电路的偏差效应分析与优化：从电路级到系统级作者：靳松,韩银和
包装：平装
开本：16
全文字数：185000
出版社：清华大学出版社
出版时间：2019-06-01
图书简介
本书主要涉及在纳米工艺下较为严重的晶体管老化效应——负偏置温度不稳定性和制造过程中引起的参数偏差。介绍了参数偏差效应产生的物理机制及对电路服役期可靠性的影响，并提出了从电路级到系统级的相应的分析、预测和优化方法。书中详细介绍了不同级别的优化方法，包括电路级的优化、面向工作负载的电路老化分析和预测、电路老化的统计预测和优化、在线电路老化预测、多向量方法优化电路老化和漏电、系统级参数偏差分析和优化等。对于从事芯片制造和设计的工程师、教师和学生来说，该书是一本实用的参考书。
推荐理由
本书介绍了纳米晶体管老化效应——负偏置温度不稳定性和制造过程中引起的参数偏差的分析、预测和优化方法。对从事芯片制造和设计的工程师、教师和学生来说，该书是一本实用的参考书。该书不仅介绍了电路级的优化方法，还详细讲述了面向工作负载的电路老化分析和预测、电路老化的统计预测和优化、在线电路老化预测、多向量方法优化电路老化和漏电、系统级参数偏差分析和优化等多个级别的优化方法，读者可根据自己的需求灵活运用。
